Elektronový mikroskop Quanta 450 disponuje následujícími detektory:
Detektory pro sekundární elektrony (SE), které přinášejí obraz povrchu, jeho reliéfu atd. pro různé režimy vakua (ETD, LFD, GSED)
Detektory pro zpětně odražené elektrony (BSE) pro různé režimy vakua sloužící spolu se zobrazením morfologie vzorků i k odlišení různých minerálních fází na základě odlišného atomového čísla jednotlivých prvků, rozlišení přírůstkové zóny u zonálních minerálů apod. (ETD, GAD)
Detektor Centaurus, který lze použít s nástavcem pro tzv. „studenou“ katodoluminiscenci (CL) přinášející informace o přítomnosti, rozmístění a dalších vlastnostech těch atomů, jejichž přítomnost vyvolává luminiscenci, nebo s nástavcem pro BSE ve všech režimech vakua
Energiově disperzní SDD detektor (EDS; EDAX Apollo X), který poskytuje informace o přítomných chemických prvcích v materiálech na mikroskopické úrovni s vyhodnocením v systému EDAX Genesis. Slouží k rychlému určení kvalitativního složení vzorku a příp. i semikvantitativního složení vzorku. Analyzovat lze prvky počínaje uhlíkem. Je možné stanovit bodovou, liniovou (koncentrační profily) i plošnou distribuci prvků (tzv. mapping)
Typ vzorku:
leštěné nábrusy – vzorek zalitý do polyesterové pryskyřice leštěný na diamantových pastách a leštících suspenzích s průměrem kotouče do 254 mm (1 palec)
leštěné výbrusy – výbrus menší 24 × 48 mm s vyleštěným povrchem místo pokrytí krycím sklíčkem, povrch upravený diamantovými pastami nebo leštící suspenzí
pevný preparát – vzorek s relativně rovným povrchem, kdy zkoumaná plocha je neleštěná, přírodní a nemá být na výrazném výstupku či utopená ve výrazné proláklině
práškový preparát – ke studiu by měl být poskytnut materiál stejné zrnitosti, který se adjustuje na grafitové terčíky či grafitovou lepící pásku
vlhké vzorky – vzorky s relativní vlhkostí až 100%, neobsahující těkavé látky
Celkově výsledky vždy závisí na kvalitě přípravy studovaného materiálu. Nejlepší výsledky dávají leštěné nábrusy nebo výbrusy. Kvalitu snižuje například nevodivost vzorku, jeho nerovný povrch apod. Pro úpravu nevodivých povrchů je možné použít pokryv C, Au nebo Pt v atmosféře argonu na zařízení K550X Sputter Coater (EMITECH). Dále kvalita výsledku závisí na počtu měřených komponent, kdy velká koncentrace jednoho prvku může ovlivnit negativním způsobem nižší koncentraci dalších prvků, což je běžné při překryvu (overlap) vytěžovaných maxim (píků) při měření, navzdory dokonalé počítačové balanci naměřeného signálu.
| Specifikace |
| Rozlišení |
vysoké vakuum |
3.0 nm při 30 kV (SE) |
| 4.0 nm při 30 kV (BSE) |
| 10 nm při 3 kV |
| nízké vakuum |
3.0 nm při 30 kV (SE) |
| 4.0 nm při 30 kV (BSE) |
| 10 nm při 3 kV |
| vakuový režim ESEM |
3.0 nm při 30 kV (SE) |
| urychlovací napětí |
200 V - 30 kV |
| proud svazku |
až do 2 µA - kontinuálně nastavitelný |
| zvětšení |
20 až 1 000 000 × (v jednom kvadrantu) |
| Vakuum v komoře |
vysoké vakuum |
6 e-4 Pa |
| nízké vakuum |
10 - 130 Pa |
| vakuový režim ESEM |
10 - 2 600 Pa |
Elektronový mikroskop Quanta 450
Elektronový mikroskop Quanta 450
Elektronový mikroskop Quanta 450 - vzorky
